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IC，即Integrated Circuit，翻译为集成电路，在电子技术中广泛应用。它是指将大片基片上的电子元件和被连接起来的电子元件之间的联系制成一体，使用化学、物理等工艺制作而成的微小电子元件的集合体。
IC是现代电子技术发展的重要里程碑，它的出现使得电子设备的体积大大减小，功耗降低，性能提升，稳定性增强。此外，IC的制造成本也较低，生产效率高，适用于大规模生产，因此广泛应用于各个领域。
IC的应用非常广泛，包括但不限于计算机、通信、消费电子、汽车电子、医疗设备等。在计算机领域，IC被用于制造处理器、存储芯片、图形芯片等，为计算机提供强大的计算能力。在通信领域，IC被用于制造通信芯片、无线模块等，实现信息的传输和交换。在消费电子领域，IC被用于制造手机芯片、摄像头、音频芯片等，为我们提供便利的生活体验。
总的来说，IC是现代电子技术中不可或缺的一部分，它的出现使得电子设备更加智能化、便携化和高效化。IC的应用不仅推动了电子产品的不断发展，还在许多领域带来了巨大的改变和创新。
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等级标准。如图2所示，列有50种等级标准聚酰胺的UL温度指数。测试样品厚度。UL温度指数随样品厚度增加而增加。例如，对同一等级的聚酰胺样品，属于同一UL温度指数范围的情况有:75°C/0.7 mm厚度，95°C/1.5 mm厚度，105°C/3 mm厚度。 和的实验室测定方法一样，温度指数是一种主观测试，这种方法通过唯一的判据标准来进行解释和制订。 UL94燃烧速度测试提供了材料点燃后自熄性能方面的基本信息。样品可以分水平（H）燃烧测试和垂直（V）燃烧测试，给出的数据信息包括燃烧速度、自熄时间和滴落性能等。主要分级如下:
电路板的铜箔厚度13oz铜箔常见的厚度21oz铜箔较薄的选择32oz铜箔用于高功率应用电路板上的铜箔厚度是一个重要的设计参数。常见的厚度有1oz、2oz和3oz铜箔。1oz铜箔较薄,用于普通应用;3oz铜箔常见,可提供良好的导电性和机械强度;2oz铜箔则主要用于高功率电路。选择合适的铜箔厚度需要考虑电路的功率、导热要求和机械强度等因素。电路板的铜箔工艺铜箔种类电路板上常见的铜箔有电解铜箔和化学镀铜箔两种。不同工艺的铜箔在价格、厚度、导电性等方面有所差异。铜箔表面处理为提高铜箔与缘基材的粘结力,铜箔表面通常会进行化学粗化或电解粗化处理。这种处理可以增加表面积,提升机械强度。铜箔厚度选择根据电路板的应用场景和工艺要求,铜箔厚度通常在0.5oz到3oz之间。较厚的铜箔适用于大电流、高功率的场合,而较薄的铜箔则可用于高密度布线。铜箔生产工艺铜箔的生产可以分为电解法和化学镀法两种。前者利用电解过程沉积铜层,后者则采用化学沉积的方式制造铜箔。两种工艺各有优缺点。
如果PCB上头有某些零件，需要在制作完成后也可以拿掉或装回去，那么该零件安装时会用到插座（Socket）．由于插座是直接焊在板子上的，零件可以任意的拆装．如果要将两块PCB相互连结，一般我们都会用到俗称「金手指」的边接头（edge connector）．金手指上包含了许多裸露的铜垫，这些铜垫事实上也是PCB布线的一部份．通常连接时，我们将其中一片PCB上的金手指插进另一片PCB上合适的插槽上（一般叫做扩充槽Slot）．在计算机中，像是显示卡，声卡或是其它类似的界面卡，都是借着金手指来与主机板连接的．