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(Analog IC)
模拟集成电路主要用于处理和。它们能够处理连续变化的信号，如的音频信号、录放机的磁带信号等。常见的模拟集成电路包括、、等。
3. 混合信号集成电路(Mixed-signal IC)
混合信号集成电路结合了数字和模拟集成电路的功能。它们能够在同一芯片上处理数字和模拟信号，广泛应用于、系统等领域。
4. 集成电路()
射频集成电路专门用于射频信号的放大、接收和发送。它们广泛应用于设备、、等系统中。
5. 功率集成电路(Power IC)
功率集成电路主要用于功率放大和功率转换。它们在电源管理、等场合发挥着重要作用。
6. 时钟和集成电路(Clock and Timer IC)
时钟和定时器集成电路用于产生和管理和定时器功能。它们在时钟、定时器、等设备中广泛使用。
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电路板的铜箔厚度13oz铜箔常见的厚度21oz铜箔较薄的选择32oz铜箔用于高功率应用电路板上的铜箔厚度是一个重要的设计参数。常见的厚度有1oz、2oz和3oz铜箔。1oz铜箔较薄,用于普通应用;3oz铜箔常见,可提供良好的导电性和机械强度;2oz铜箔则主要用于高功率电路。选择合适的铜箔厚度需要考虑电路的功率、导热要求和机械强度等因素。电路板的铜箔工艺铜箔种类电路板上常见的铜箔有电解铜箔和化学镀铜箔两种。不同工艺的铜箔在价格、厚度、导电性等方面有所差异。铜箔表面处理为提高铜箔与缘基材的粘结力,铜箔表面通常会进行化学粗化或电解粗化处理。这种处理可以增加表面积,提升机械强度。铜箔厚度选择根据电路板的应用场景和工艺要求,铜箔厚度通常在0.5oz到3oz之间。较厚的铜箔适用于大电流、高功率的场合,而较薄的铜箔则可用于高密度布线。铜箔生产工艺铜箔的生产可以分为电解法和化学镀法两种。前者利用电解过程沉积铜层,后者则采用化学沉积的方式制造铜箔。两种工艺各有优缺点。
一个困难的研究课题――电致生热，目前正处于研发阶段，例如BASF展示了一种电阻在10ohm/cm的聚缩醛树脂，如果给加上12v电压，这种树脂可以保持恒温110°C持续1000小时。温度指数是指在一个很长的时期内，引起目标特性50％衰减的高温度。这个温度指数是通过长时间炉温老化实验得到的。UL温度指数取决于: 目标特性。根据所涉及的性能不同，UL温度指数有三种不同领域:电学特性；电学特性和力学特性（不包括冲击特性）；电学特性和力学特性（包括冲击特性）。同样厚度的同等级样品的这三种温度指数可以相同也可以不同，一些例子如表3所示。
V0:燃烧，10s时间内自熄，无滴落和和火星产生； V1:30s时间内自熄，无滴落和火星产生； V2:30s时间内自熄，允许有滴落和火星产生； 5V:60s时间内自熄，允许有滴落和火星产生； HB:大水平燃烧速度为76mm/min。UL燃烧速度取决于: 分级――可燃性聚合物可以按照V0标准划分为阻燃级别，也可以划分为相反级别的易燃性材料，不可燃性聚合物如果含有高含量的可燃性增塑剂则可以HB标准划分为一个级别。